產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)品特點(diǎn): 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,
公司簡(jiǎn)介
深圳市誠(chéng)峰智造有限公司是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的高新技術(shù)企業(yè),作為一家等離子清洗機(jī)廠家,使用等離子體表面處理技術(shù)為客戶解決產(chǎn)品表面處理問題。
中國(guó)香港、臺(tái)灣、深圳、蘇州、天津、成都設(shè)立六大銷售及客戶中心,銷售及客服網(wǎng)絡(luò)遍布全中國(guó),擁有國(guó)內(nèi)外銷售及客服團(tuán)隊(duì)。
源于美國(guó)
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產(chǎn)品說明
全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN
名稱(Name)
全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)
型號(hào)(Model)
CRF-APO-500W-XN
電源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz
等離子功率(Plasma power)
10KW(Max)/40KHz(Option)
有效處理寬幅(Processing width)
120mm-1200mm(Option)
有效處理高度(Processing height)
3mm~8mm(Max)
處理速度(Processing speed)
0-8m/min
工作氣體(Gas)
N2/N2+CDA
產(chǎn)品特點(diǎn): 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;
靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,
材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。
在現(xiàn)今等離子清洗機(jī)是如何解決溫度這個(gè)問題的呢?
依據(jù)等離子體中的重粒子溫度,可以把等離子體分為兩大類,熱等離子體和冷等離子體。以3×103K-3×104K,基本達(dá)到了熱力學(xué)平衡,具有統(tǒng)一的熱力學(xué)平衡溫度,可通過麥克斯韋的熱力學(xué)平衡態(tài)速度分布,波爾茲曼粒子能量分布,沙哈方程等方法確定等離子體狀態(tài)和參數(shù)。熱等離子體能量密度高,主要用于材料合成、球化、致密性和涂層保護(hù)。
在低溫等離子體中,重粒子的溫度只有室溫,而電子溫度可以達(dá)到成千上萬度,因此遠(yuǎn)離熱力學(xué)平衡狀態(tài),例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要用于等離子蝕刻、沉積和等離子表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶關(guān)心的問題,電洗滌時(shí),電洗滌火焰看起來也和一般的火焰差不多,而電洗滌設(shè)備如采用中頻電源,功率大,能量猛,不加水冷溫度也很高,若洗滌材料不耐溫,則需注意溫度。
電漿清洗機(jī)的電源常用的是13.56KHz射頻電源,它產(chǎn)生的等離子密度高,能量柔軟,溫度低,一般功率為1~2KW,大功率為5KW,小功率為數(shù)百W,多功率為40KHz,中頻功率為40KHz,與射頻電源相反,電漿密度不高,但功率大,能量高,大功率為幾十KW。真空等離子體清潔器放電射頻清潔器的溫度與平時(shí)室內(nèi)氣溫也差不多,當(dāng)然如果整天都在使用真空等離子體清潔器,還是需要加水冷卻系統(tǒng)。
電漿噴射的平均溫度介于200至250攝氏度。如果能夠正確設(shè)定距離和速度,表面溫度可以達(dá)到70-80℃。本工藝適用于各種標(biāo)準(zhǔn)品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗,一般采用噴射式等離子體清洗裝置,也可應(yīng)用于流水線上的等離子體清洗裝置,由于流水線的不斷運(yùn)轉(zhuǎn),材料在噴嘴下停留時(shí)間較長(zhǎng)。由于氮?dú)饽芙档偷入x子體溫度,有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是,等離子體清洗機(jī)中還有一種產(chǎn)品叫做電暈,其實(shí)電暈也是等離子體清洗機(jī)的一種分類。電暈機(jī)的洗滌溫度一般較高,電暈機(jī)與噴射等離子體的洗滌溫度相似,有時(shí)遇到不耐高溫的材料,也會(huì)用氮清洗。
事實(shí)上,沒有必要太擔(dān)心溫度問題。目前的等離子清洗機(jī)可以很好地調(diào)節(jié)溫度,使材料清洗達(dá)到理想的效果(效果)。
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