產(chǎn)品簡介
主要用途：本設備主要用于大專院校研究和開發(fā)納米級單層膜；如各種硬質(zhì)膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料?？梢赃M行直接濺射，亦可以實現(xiàn)反應濺射。 主要特點：結(jié)構(gòu)簡捷、操作簡便，真空度維護高，安全可靠。
公司簡介
北京奧德盛世科技有限公司總部位于北京，其主要經(jīng)營范圍是環(huán)境、生物醫(yī)學儀器儀表檢測類、實驗室監(jiān)測設備、專用分析儀器類、無損檢測類、計量校準精密儀器等等，是集產(chǎn)品設備的開發(fā)、制造和檢測為一體的經(jīng)營模式，并擁有完整、科學的質(zhì)量管理體系。
多年來，公司創(chuàng)造和發(fā)展了一個特定的技術(shù)市場——為各個工業(yè)領(lǐng)域提供用于測試和檢測故障的優(yōu)質(zhì)電子儀器儀表產(chǎn)品，并把該市場提升到重要地位。從工業(yè)控制系統(tǒng)的安裝調(diào)試到過程儀表的校驗維護，從實驗室精密測量到計算機網(wǎng)絡的故障診斷，我公司的產(chǎn)品幫助各行各業(yè)的業(yè)務高效運轉(zhuǎn)并不斷發(fā)展。無論是技術(shù)人員、工程師、科研、教學人員還是計算機網(wǎng)絡維護人員，都通過使用我公司的電子儀器儀表..
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產(chǎn)品說明
射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：SS-DH-RM-1
主要用途：本設備主要用于大專院校研究和開發(fā)納米級單層膜；如各種硬質(zhì)膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料?？梢赃M行直接濺射，亦可以實現(xiàn)反應濺射。
主要特點：結(jié)構(gòu)簡捷、操作簡便，真空度維護高，安全可靠。
鍍膜機應安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內(nèi)，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。
1、地面的基本水平度要經(jīng)過調(diào)整，不得高低不平；
2、環(huán)境溫度：10℃～30℃；
3、相對濕度：不大于75%；
4、耗水量（進水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；
5、水質(zhì)要求：
矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。
6、電壓： 220V，50HZ，
電壓波動范圍： 198～231V；
頻率波動范圍：49～51Hz;
7、水壓：0.3～1Kg/cm2或0.03～0.1MPa/cm2;
8、充入氣體純度99.9%或以上;
9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。
設備規(guī)格參數(shù)
1.1、濺射處理室：
1、鐘罩：內(nèi)徑225mm×高度260mm；
2、試樣臺：直徑80mm（大）；
3、試樣旋轉(zhuǎn)：靜止；
4、擋板：手動；
5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）；
6、襯底溫度范圍：室溫～200℃；
7、襯底可調(diào)距離：20mm～60mm；
8、濺射室限真空：0.5Pa
1.2、真空系統(tǒng)：
1、抽氣系統(tǒng)：由機械泵組成的一級真空系統(tǒng)；抽氣速率：4升/S
2、真空檢測：電阻真空計、電阻規(guī)；
3、常用真空度：1～20Pa
4、操作：手動
1.3、濺射電源：
1、射頻電源：頻率13.560MHZ,功率：500W，用表指示；
2、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω；
3、供電：AC 220V；
4、冷卻方式：風冷；
1.4、 磁控靶：
1、靶材直徑：Ф50mm、 一個永磁靶；
2、靶材厚度：3～6mm；
1.5、進氣系統(tǒng)：2路轉(zhuǎn)子流量計進氣，
1.6、電源要求：AC 220V 50Hz 10A
1.7、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時使用高純)
1.8、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風冷
1.9、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm；約120kg
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