Heidolph的磁力攪拌器，歸因于其能夠流暢地強(qiáng)烈混合低粘度溶液。以應(yīng)用

Heidolph的磁力攪拌器，歸因于其能夠流暢地強(qiáng)烈混合低粘度溶液。

以應(yīng)用為依靠，它們能夠同時(shí)混合和加熱。它們是分解有機(jī)物和無機(jī)物的。 Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點(diǎn) • 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤• 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈• 800W的加熱能力，快速加熱     • 轉(zhuǎn)速zui大可達(dá)到14，000rpm• 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動(dòng)攪拌子• 多可攪拌20L水• 免維護(hù)的發(fā)動(dòng)機(jī)，啟動(dòng)順暢• 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃• 高效率驅(qū)動(dòng)，低效率消耗• 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用    

加熱攪拌MR Hei-End	加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec[]	加熱攪拌MR  Hei-Standard	攪拌MR Hei-Mix D/L/S

  加熱型磁力攪拌器MR Hei-End高安全性能• 800Ｗ加熱功率 (600 W 于 115/100 V)•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金•的熱傳導(dǎo)效率和分配性能•的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能•加熱盤直徑: 145 mm•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時(shí)•獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱•完全避免錯(cuò)誤的溫度設(shè)定 •速度范圍: 30 - 1,400 rpm•出眾的溫度控制精度: ±1 %•數(shù)字顯示速度和溫度(包括設(shè)定值和實(shí)際值)•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C •介質(zhì)溫度范圍:zui高 250     •精確溫度設(shè)定：±1K    •當(dāng)停止加熱時(shí), 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量•照明開關(guān)•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉•的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升( H2O)      加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec[]適用于更高實(shí)驗(yàn)要求MR Hei-Tec•800 W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C•速度范圍: 100 - 1,400 rpm•速度控制精度:±2 %•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  •當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱•照明開關(guān)•電子溫度控制(選配 EKT Hei-Con)•精確溫度設(shè)定:   ±1K (選配 EKT Hei-Con)•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K(選配 EKT Hei-Con)•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉•的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升( H2O)MR Hei-Tec•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金-          的熱傳導(dǎo)效率和分配性能-          的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能•加熱盤直徑: 145 mmMR Hei-Tec [ ]•與 MR Hei-Tec 參數(shù)一致•正方形加熱盤•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成•加熱盤尺寸 w x d (mm): 132 x 132    加熱型磁力攪拌器MR Standard適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器MR Hei-Standard• 800 W 加熱功率 (600 W 于 115/100 V)•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C•速度范圍: 100 - 1,400 rpm•速度控制精度:±2 %•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金-          的熱傳導(dǎo)效率和分配性能-          的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能•加熱盤直徑: 145 mm•通過兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  •當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開關(guān)自動(dòng)停止加熱•電子溫度控制(選配 EKT Hei-Con)•精確溫度設(shè)定:   ±1K (選配 EKT Hei-Con)•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K(選配 EKT Hei-Con)•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉•的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升( H2O)        磁力攪拌器MR Mix D/L/S 攪拌單功能MR Hei-Mix D•數(shù)字顯示，電子速度控制•速度范圍: 100 - 1,400 rpm•速度控制精度:±2 %•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉•加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 (V2A)•加熱盤直徑: 145 mm•延長(zhǎng)操作時(shí)間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤•推薦用于細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室 MR Hei-Mix L•與MR Hei-Mix D參數(shù)一致, 無數(shù)字顯示 MR Hei-Mix S•白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤•特別推薦用于滴定•加熱盤直徑: 105 mm•電子速度控制，無數(shù)字顯示•大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm•機(jī)身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯•zui小的空間需要:126 ×80×140 mm (w × h × d)
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