KT—Z1650CVD是一款小型坩堝真空蒸鍍儀，也是臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金

鄭州科探儀器設備有限公司是集開發(fā)、制造、經營為一體的材料設備創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產品已經遍布國內大多數(shù)實驗室 及科學院校，科探儀器已經成為老師 同學和信任的品牌。 公司以科技創(chuàng)新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發(fā)新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經過長期的研發(fā)和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術10余項，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發(fā)領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯(lián)合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！ 目前公司已研發(fā)生產產品十多個系列幾十款產品，產品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機 小型離子濺射儀 小型蒸鍍儀 石英管真空封口 真空探針臺 半導體等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。 公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴謹?shù)募夹g研發(fā)能力，科學合理的生產工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD

是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。

坩堝真空蒸鍍儀蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠

低于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉變過程。

SHAPE \* MERGEFORMAT

編輯

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜

115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘

115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

小型坩堝真空蒸鍍儀技術參數(shù)

控制方式	7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）

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