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2016款橢圓偏振光測厚儀

河北慧采科技有限公司

會員指數(shù)：

企業(yè)認證：

價格：電議

所在地：河北邢臺市

型號：2016款

更新時間：2017-07-07

瀏覽次數(shù)：15820

公司地址：河北省邢臺市橋東區(qū)唐寧10號

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產(chǎn)品簡介

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結構橢圓偏振光測厚儀

公司簡介

河北潤創(chuàng)科技開發(fā)有限公司是一家致力于儀器儀表設備的大型企業(yè)，解決您東拼西湊的煩惱，為您打造一站式采購平臺，

更可靠，更實惠，更安全，更放心。

我們擁有強大的科研研發(fā)人員，及完善的售后服務體系。奉行“誠信、務實、開拓、創(chuàng)新”的企業(yè)信念，在客戶中樹立了

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我廠專業(yè)生產(chǎn)；擁有100多名的售后服務隊伍，完善的售后保證，保證每個客戶問題及時反饋和處理；本廠常年保存充足

的產(chǎn)品備件，滿足用戶隨時的維護和維修需求。

我廠生產(chǎn)的各種產(chǎn)品具有鑄造，加工、組裝，一次性完成的能力，保證每臺出廠產(chǎn)品的質量，擁有大型機加車間、機加設

備及配套的相關技術工人，可根據(jù)用戶的需要，為用戶設計各種專用設備，可以滿足，建筑，鐵道，水電，交通，礦山等單位

不同工程實際情況；除此外，我廠擁有一支具備專業(yè)能力的隊伍，可以對外承攬技術咨詢服務。

我們竭誠歡迎全國各界朋友、專家和領導來我廠洽談業(yè)務，光臨指導。我們將以一流的產(chǎn)品，一流的服務，十分的誠意和

熱情，一流的信譽及對用戶高度負責的精神，完成每一件產(chǎn)品，每一道工序。

展開

產(chǎn)品說明

產(chǎn)品簡介: ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠紅外。 ESS03采用寬光譜光源結合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學參數(shù)。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。技術特點：寬的光譜范圍采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學設計，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴格的場合。靈活的測量設置儀器的多個關鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。原子層量級的檢測靈敏度的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質量的設計和制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達到0.05nm。非常經(jīng)濟的技術方案采用較經(jīng)濟的寬光譜光源結合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。應用領域： ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。 ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質材料、聚合物、半導體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導體地臨界點，這對于測量和控制合成的半導體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。 ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應用領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。薄膜相關應用涉及物理、化學、信息、環(huán)保等，典型應用如：半導體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結構多種型號圖片


型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀	型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀	型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

【溫馨提示】
本公司產(chǎn)品因產(chǎn)品種類繁多，詳細配置價格請致電咨詢！
[邢臺秦星科技有限公司]——是集科研、開發(fā)、制造、經(jīng)營于一體，的工程試驗儀器專業(yè)制造實體。公司主要經(jīng)營砼混凝土儀器,水泥試驗儀器,砂漿試驗儀器,泥漿試驗儀器,土工試驗儀器,瀝青試驗儀器,公路集料儀器,防水材料儀器,公路巖石儀器,路面試驗儀器,壓力試驗機養(yǎng)護室儀器及實驗室耗材等上百種產(chǎn)品。在以雄厚的技術底蘊在強化開發(fā)的同時，積采用外技術標準，尋求推進與大專院校，科研單位的協(xié)作互補，以實現(xiàn)新產(chǎn)品開發(fā)的高起點，在交通部、建設部及科研所們的指導下，產(chǎn)品不斷完善，不斷更新。已廣泛用于建材，建筑施工，道橋建設，水電工程和機械，交通、石油、化工等領域的質量檢測。并同外各試驗儀器廠建立了長期合作關系，嚴把質量關，價格更優(yōu)惠！公司擁有現(xiàn)代化鋼構倉庫4000多平方米，并配備業(yè)內的裝備設施，車輛出入方便，倉庫管理實現(xiàn)標準化、化管理，確保儀器設備不斷貨。眾多眾多知名試驗儀器及測量、測繪電子廠家直供，外一線知名儀器品牌匯聚于此，更是眾多新品上線網(wǎng)購平臺的之地。服務隊伍專業(yè)快捷服務，完善的呼叫中心服務體系，：[牛經(jīng)理]迅速解決客戶問題，專業(yè)提供優(yōu)質的售后服務。潤聯(lián)為您提供詳細的產(chǎn)品價格、產(chǎn)品圖片等產(chǎn)品介紹信息，您可以直接聯(lián)系廠家獲取產(chǎn)品的具體資料，聯(lián)系時請說明是在潤聯(lián)看到的，并告知型號
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廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結構

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【廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結構一共有★★30★★多種型號以上只顯示1-3種型號，如沒有合適您的產(chǎn)品請咨詢邢臺秦星科技有限公司】

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結構多種型號內容

型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀

EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）橢偏測量原理，針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導體、介質）的折射率n和消光系數(shù)k。
特點
經(jīng)典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結構
集成一體化設計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連，方便使用。
高準確性的激光光源
采用激光作為探測光波，測量波長準確度高。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率；塊狀材料的復折射率、樣品反射率、樣品透過率。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進行方便的測量數(shù)據(jù)分析、儀器校準等操作。
安全的用戶使用權限管理
軟件中設置了用戶使用權限（包括：管理員、等模式），便于儀器管理和使用。
可擴展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當擴展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應用
EX2適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。

技術指標

項目	技術指標
儀器型號	EX2
測量方式	自動測量
樣品放置方式	水平放置
光源	He-Ne激光器，波長632.8nm
膜厚測量重復性*	0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質相關
折射率范圍	1.3 – 10
探測光束直徑	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角讀數(shù)范圍	0-360°
偏振器步進角	0.014°
樣品方位調整	Z軸高度調節(jié)：16mm 二維俯仰調節(jié)：±4°
允許樣品尺寸	樣品直徑可達Φ160mm
配套軟件	* 用戶權限設置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計算、輸入輸出
外形尺寸	約400400250mm
儀器重量（凈重）	約20Kg
選配件	* 半導體激光器

注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。
性能保證
ISO9001質量體系下的儀器質量保證
專業(yè)的橢偏測量原理課程
專業(yè)的儀器使用培訓

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200090.html
EX2自動橢圓偏振測厚儀
型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀

EM13LD 系列是采用量拓科技的測量技術，針對普通精度需求的研發(fā)和質量控制領域推出的多入射角激光橢偏儀。
EM13LD系列采用半導體激光器作為光源，可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設計實現(xiàn)了納米薄膜的厚度測量。
EM13LD系列采用了量拓科技多項。
特點：
次納米的高靈敏度
的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量薄納米薄膜，膜厚精度可達到0.5nm。
3秒的快速測量
水準的儀器設計，在保證精度和準確度的同時，可在3秒內快速完成一次測量，可對納米膜層生長過程進行測量。
簡單方便的儀器操作
用戶只需一個按鈕即可完成復雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行測量設置。
應用：
EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質量控制。
EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
EM13LD可應用的納米薄膜領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應用的塊狀材料領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。
技術指標:

項目	技術指標
儀器型號	EM13 LD/635 (或其它選定波長)
激光波長	635 nm (或其它選定波長，高穩(wěn)定半導體激光器)
膜厚測量重復性（1）	0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率測量重復性（1）	5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間	與測量設置相關，典型3s
的膜層范圍	透明薄膜可達1000nm 吸收薄膜則與材料性質相關
光學結構	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準確度）
激光光束直徑	2mm
入射角度	40°-90°可手動調節(jié)，步進5°
樣品方位調整	Z軸高度調節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調節(jié)：±4° 樣品對準：光學自準直和顯微對準系統(tǒng)
樣品臺尺寸	平面樣品直徑可達Φ170mm
外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調節(jié)平移臺，真空吸附泵
軟件(ETEM)	* 中英文界面可選 * 多個預設項目供快捷操作使用 * 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合 * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。
性能保證:
穩(wěn)定性的半導體激光光源、的采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準確度
的光學自準直系統(tǒng)，保證了快速、的樣品方位對準
穩(wěn)定的結構設計、可靠的樣品方位對準，結合的采樣技術，保證了快速、穩(wěn)定測量
分立式的多入射角選擇，可應用于復雜樣品的折射率和厚度的測量
一體化集成式的儀器結構設計，使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
一鍵式軟件設計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200096.html
EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠紅外。
ESS03采用寬光譜光源結合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學參數(shù)。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
技術特點：
寬的光譜范圍
采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學設計，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴格的場合。
靈活的測量設置
儀器的多個關鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。
原子層量級的檢測靈敏度
的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質量的設計和制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達到0.05nm。
非常經(jīng)濟的技術方案
采用較經(jīng)濟的寬光譜光源結合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。
應用領域：
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質材料、聚合物、半導體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導體地臨界點，這對于測量和控制合成的半導體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。
ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應用領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
薄膜相關應用涉及物理、化學、信息、環(huán)保等，典型應用如：
半導體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等。
節(jié)能環(huán)保領域：LOW-E玻璃等。
ESS03系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應用領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。典型應用包括：
玻璃新品研發(fā)和質量控制等。

技術指標：

項目	技術指標
光譜范圍	ESS03VI：370-1700nm ESS03UI：245-1700nm
光譜分辨率（nm）	可設置
入射角度	40°-90°手動調節(jié)，步距5，重復性0.02
準確度	δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測空氣時）
膜厚測量重復性（1）	0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率n測量重復性（1）	0.001 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間	典型0.6s / Wavelength / Point（取決于測量模式）
光學結構	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準確度）
可測量樣品尺寸	直徑200 mm
樣品方位調整	高度調節(jié)范圍：10mm
樣品方位調整	二維俯仰調節(jié)：±4°
樣品對準	光學自準直顯微和望遠對準系統(tǒng)
軟件	•多語言界面切換
	•預設項目供快捷操作使用
	•安全的權限管理模式（管理員、操作員）
	•方便的材料數(shù)據(jù)庫以及多種色散模型庫
	•豐富的模型數(shù)據(jù)庫
選配件	自動掃描樣品臺聚焦透鏡

注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標準差。
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200100.html
ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

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