JK-CH600190-XRD冷熱臺
JK-XRD原位冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產(chǎn)品采用液氮致冷、電阻加熱的方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度范圍內(nèi)的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結(jié)構(gòu)研究，適配現(xiàn)有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛、理學(xué)等）。
產(chǎn)品需要與溫度控制器、致冷控制器（選配）配套使用，配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設(shè)置及采集，提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。
產(chǎn)品特點：
溫度范圍-190~600℃（選型）/RT~1000℃（選型）
溫度穩(wěn)定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）
衍射角0～164°
X射線視窗Kapton膜
支持反射/透射模式
密腔室設(shè)計，可升級真空腔室（10^(-3) mBar）
可換上蓋，作為普通冷熱臺使用
可調(diào)節(jié)高度，滿足不同厚度樣品測試換上蓋，可用作光學(xué)冷熱臺，實現(xiàn)一機多用
詳細參數(shù)一覽表：
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XRD原位冷熱臺 |
JK-CH600190XV |
JK-H1200XV |
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溫控模塊 |
冷熱方式 |
液氮致冷，電阻加熱 |
電阻加熱 |
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溫控范圍 |
-190～600℃ * |
RT～1200℃ * |
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溫度穩(wěn)定性 |
±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）* |
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溫度分辨率 |
0.1℃ |
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升降溫速率 |
0~30℃/min（可定點 / 程序段控溫） |
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溫控方式 |
PID |
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溫度傳感器 |
PT100 |
熱電偶 |
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光學(xué)特性 |
光路 |
反射 * |
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X射線透射膜 |
Kapton膜 |
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結(jié)構(gòu)特性 |
樣品臺尺寸 |
23×23mm * |
12x12mm * |
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樣品臺材質(zhì) |
銀質(zhì) * |
陶瓷 * |
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外形尺寸 |
100×100×73mm * |
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腔室 |
真空 |
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外殼冷卻 |
循環(huán)水 |
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基本配置 |
XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、定制支架x1、溫控軟件x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、連接管路若干 |
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選配 |
電腦主機/定制溫控軟件/定制光學(xué)蓋板 |
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備注 |
以上均為默認參數(shù) * 為可定制項 |
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其他可選型號 |
CH400-100-X（-100~400℃） |
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產(chǎn)品應(yīng)用：
搭配理學(xué)X射線衍射儀 ↓
搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓
搭配布魯克X射線衍射儀 ↓
